內容概要：因生產技術較為復雜、工藝所需光刻膠有嚴格的質量要求且國內光刻膠生產工藝及產能不足以滿足市場需求，我國光刻膠市場主要由日系的JSR、信越化學、東京應化等少數公司所壟斷，國內光刻膠大規模產業化生產企業相對較少，大部分企業目前仍處于光刻膠產品技術研發階段或光刻膠生產線加緊建設階段。隨著國內半導體產業國產化替代浪潮的興起，我國光刻膠產品技術研發不斷增加，國產光刻膠技術專利申請量上升，國內光刻膠產品生產技術水平不斷提升，國產供應能力不斷增強，行業市場國產化進程加速推進。

關鍵詞：光刻膠競爭格局、光刻膠技術研發、光刻膠產業重點企業分析、國產高端光刻膠

一、市場產品研發力度增強，國產光刻膠替代加速

光刻膠是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑3種材料組成的對光敏感的混合液體，可在光刻工藝過程中用作抗腐蝕涂層材料，是光刻工藝最重要的耗材，對光刻精度至關重要，光刻膠被稱為半導體材料皇冠上的明珠，是半導體產業最關鍵的材料。據在光刻膠工藝過程中形成的圖像，光刻膠可大致分為正性光刻膠和負性光刻膠兩大類，主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。

因生產技術較為復雜、工藝所需光刻膠有嚴格的質量要求且國內光刻膠生產工藝及產能不足以滿足市場需求，我國光刻膠市場主要由日系的JSR、信越化學、東京應化等少數公司所壟斷，國內光刻膠大規模產業化生產企業相對較少且企業所占市場份額較低，如2021年，晶瑞電材光刻膠業務收入為2.74億元，所占行業市場份額僅2.94%；國內大部分企業目前仍處于光刻膠產品技術研發階段或光刻膠生產線加緊建設階段，如國風新材與中科大及哈工大成立聯合實驗室開展PI光刻膠材料研究、萬潤股份的年產65噸光刻膠樹脂系列產品項目、飛凱材料的5000t/aTFT-LCD光刻膠項目、晶瑞電材的集成電路制造用高端光刻膠研發項目、南大光電的ArF光刻膠產品開發與產業化研發項目等。

隨著國內半導體產業國產化替代浪潮的興起，我國光刻膠產品技術研發不斷增加，國產光刻膠技術專利申請量上升，主要由上海、北京、江蘇、廣東、安徽、浙江等省市地區企業申請，如京東方科技集團股份有限公司、中芯國際集成電路制造（上海)有限公司、中國科學院微電子研究所、上海華力微電子有限公司、中芯國際集成電路制造（北京）有限公司、上海華虹宏力半導體制造有限公司、臺灣積體電路制造股份有限公司、西安電子科技大學、上海華虹NEC電子有限公司、北京大學、中國科學院上海微系統與信息技術研究所、北京京東方光電科技有限公司、長鑫存儲技術有限公司等，國內光刻膠產品生產技術水平不斷提升，國產供應能力不斷增強，行業市場國產化進程加速推進。

二、企業加大產品研發投入，南大光電突破ArF光刻膠技術封鎖

（一）南大光電：“02-專項”通過驗收，加速ArF光刻膠產業化實現

南大光電全稱江蘇南大光電材料股份有限公司，誕生于國家“863”計劃，于2000年正式創辦成立，成長于國家“02-專項”，于2012年8月7日在深圳證券交易所創業板掛牌上市。南大光電圍繞前驅體材料（包含MO源）、電子特氣和光刻膠三項核心電子材料進行奮斗，產品廣泛應用于制備IC、LCD、LED、OLED、功率器件、半導體激光器等領域，并通過在江蘇蘇州、浙江寧波、安徽全椒、山東淄博、內蒙古烏蘭察布設立研發生產基地，在北美設立營銷技術服務分公司，企業基本形成了三大核心業務板塊布局。其中，浙江寧波的光刻膠生產基地占地面積達90666平方米，主要承擔企業高端光刻膠及配套材料的研發和產業化。

2017年，南大光電承接另外國家“02-專項”高分辨率光刻膠產品關鍵技術的研究項目，達到光刻膠基礎配方分辨率相關技術節點要求和項目原定的技術指標要求，得到了“02-專項”項目驗收專家組的高度認可；2018年，02重大專項實施管理辦公室決定由該企業正式承擔193nm浸沒式光刻膠產品開發和產業化項目，持續突破ArF光刻膠產品技術封鎖。經過長時間的研發投入及技術積累，2019年，南大光電的產能達到10噸/年的第一條光刻膠生產線在寧波市北侖區成功建成，并于2020年完成了總產能達到25噸/年的第二條光刻膠生產線。直至2020年底，南大光電193nmArF光刻膠先后通過存儲和邏輯兩家芯片制造企業的驗證，為量產打下了堅實基礎，成為國內首個通過驗證的ArF光刻膠產品，企業ArF光刻膠研發和產業化取得關鍵性突破；2021年建黨100周年前夕，企業“先進光刻膠產品開發與產業化”項目順利通過驗收。

光刻膠及配套材料作為光刻工藝中的關鍵材料，廣泛應用于集成電路和半導體分立器件的細微圖形加工工藝中，且光刻膠質量高度影響光刻工藝實施，目前，國內光刻膠高端產品市場進口依存度較高。據悉，南大光電在國家重大科技攻關項目的支持下，不斷推動企業光刻膠技術研發完全自主化路線實施，其自主研發和產業化的ArF光刻膠（包含干式及浸沒式）已可以達到90nm-14nm的集成電路工藝節點，將持續助力提升國家關鍵材料領域自主可控水平、突破國外光刻膠產品技術封鎖，有利于實現高端光刻膠的進口替代，加速國產產品替代化發展進程推進。2022年1-9月，南大光電產品技術研發投入金額達1.29億元，同比增長66.3%。目前，南大光電光刻膠產品在研項目為“ArF光刻膠原材料及配套材料研究和產業化”，主要用于建立企業ArF光刻膠原材料及配套材料的產品檢測和質量控制平臺、生產基地和產業化平臺，助力企業光刻膠業務產業化發展進程推進。

未來南大光電將堅定圍繞“為用戶提供更安全、經濟、綠色的高品質電子材料，成為國內一流，具有國際競爭力的電子材料公司”這一戰略目標，堅守“真正的高科技、真正的產業化、真正的全球化”發展標準，踐行“安全第一、以客戶為中心、以業績為標準”三項基本原則，光刻膠業務以通過國家驗收為新起點，圍繞重大科技專項及重點客戶需求，加快關鍵項目技術攻關，緊抓產品認證和市場拓展，加快企業ArF光刻膠產業化步伐，力爭實現“前驅體材料國際領先，電子特氣國內一流，ArF光刻膠成功產業化”總發展目標。

（二）晶瑞電材：業務經營收入增長，加緊ArF高端光刻膠研發

晶瑞電材企業全稱為晶瑞電子材料股份有限公司，成立創辦于2001年，是一家集研發、生產和銷售于一體的科技型新材料公司，企業主要生產產品保養有超凈高純試劑、光刻膠、功能性材料、鋰電池材料等，廣泛應用于半導體、面板顯示、LED等泛半導體領域及鋰電池、太陽能光伏等新能源行業。

相關報告：智研咨詢發布的《中國光刻膠行業市場發展模式及競爭格局預測報告》

光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一，屬典型卡脖子材料，高端產品的研發和生產主要由日系的JSR、信越化學、東京應化等少數公司所壟斷。為突破產品技術工藝封鎖，晶瑞電材圍繞半導體光刻膠領域進行產品研發，于1993年正式開始光刻膠產業生產，2020年啟動了集成電路制造用高端光刻膠研發項目，并于2020年下半年購買了ASML1900Gi型光刻機及配套設備，2021年下半年購入了尼康KrFS207光刻機及配套設備，有效助力國家關鍵材料領域“自主可控”水平的提升、半導體材料的“國產替代”。

經過近30年的生產技術積累，目前，晶瑞電材已擁有了成系列的光刻機五臺，形成了負型光刻膠系列、寬譜正膠系列、g線系列、i線光刻膠系列、KrF光刻膠系列等數十個型號的光刻膠產品體系，且產品質量達到國際中高級水準，在國內具有悠久聲譽，i線光刻膠已向國內中芯國際、合肥長鑫等知名大尺寸半導體廠商供貨、KrF（248nm深紫外）光刻膠產品分辨率達到了0.25～0.13μm的技術要求且KrF光刻膠生產及測試線已經基本建成，，企業已成為我國供應半導體光刻膠出貨量最大的本土企業之一。

憑借企業在半導體光刻膠領域近30年的技術積累、近年來持續引進優秀人才并加強團隊建設、多年良好的行業口碑等優勢，晶瑞電材逐步打造并形成一個日趨完善的半導體光刻膠產品序列，企業光刻膠業務范圍不斷拓展。2019-2022年，晶瑞電材光刻膠業務營收呈現逐年上升態勢。2022年1-6月，晶瑞電材光刻膠及配套材料業務實現營業收入為1.37億元，同比增長3.84%；其中企業正、負型光刻膠營業收入同比增長11.25%，配套材料營業收入同比增長42.18%。

為突破國際高端光刻膠產品技術的封鎖、提高光刻膠市場國產自給率，晶瑞電材不斷加大尖端光刻膠的研發投入。2022年1-9月，晶瑞電材研發投入金額為4333.82萬元，同比增長37.74%。目前，晶瑞光電正加緊集成電路制造用高端光刻膠研發項目（ArF）、適用于ArF光刻膠生產的成膜樹脂合成工藝研發、超高耐熱性I-line光刻膠研發、Acetal型正性光刻膠的研發、適用于250nm到130nm工藝節點KrF光刻膠研發等多個光刻膠產品技術項目研發，其中ArF高端光刻膠研發工作的正式啟動及研發工作的有序開展是晶瑞電材在光刻膠產品研發領域又一重點突破方向，將持續助力企業產品技術水平提升，推動我國高端光刻膠市場國產替代推進。

以上數據及信息可參考智研咨詢（www.szxuejia.com）發布的《中國光刻膠行業市場發展模式及競爭格局預測報告》。智研咨詢是中國領先產業咨詢機構，提供深度產業研究報告、商業計劃書、可行性研究報告及定制服務等一站式產業咨詢服務。您可以關注【智研咨詢】公眾號，每天及時掌握更多行業動態。