光刻膠
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2025年光刻膠行業市場規模及主要企業市占率分析報告
光刻膠是利用光化學反應,經光刻工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質,是光刻工藝得以實現選擇性刻蝕的關鍵材料,被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作。根據應用領域的不同,光刻膠可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠和半導體光刻膠。其中,PCB光刻膠的技術壁壘相對較低,半導體光刻膠的技術門檻較高。
專精特新專欄:某光刻膠企業順利通過2024年江蘇省專精特新中小企業認定[圖]
針對某光刻膠企業申報專精特新中小企業的需求,智研咨詢秉承專業態度,以企業基本信息與經營情況作為出發點,調研光刻膠行業現狀及市場占有率,深入分析該光刻膠企業在行業內所處地位,并依據江蘇省專精特新中小企業認定標準,與企業現有信息逐條對比,探討企業申報優劣勢,最終給出切實可行的整改建議及調整方向,助力企業申報。依托智研咨詢專精特新申報服務,該光刻膠企業順利通過2024年江蘇省專精特新中小企業認定。
光刻膠-產業百科
在市場需求增長及國產自主化政策推動下,疊加產業轉移等因素,我國光刻膠市場規模加速擴增,據統計,我國光刻膠行業市場規模從2015年的55.39億元增長至2022年的190.69億元,2015-2022年CAGR為19.32%。
2024-2030年中國高飽和度光刻膠行業市場競爭格局及發展前景研判報告
《2024-2030年中國高飽和度光刻膠行業市場競爭格局及發展前景研判報告》共十二章,包含2019-2023年高飽和度光刻膠行業各區域市場概況,高飽和度光刻膠行業主要優勢企業分析,2024-2030年中國高飽和度光刻膠行業發展前景預測等內容。
2023年全球及中國光刻膠行業全景速覽:本土企業積極布局,力爭提升國產化率[圖]
據統計,2022年全球光刻膠行業市場規模達到101.6億美元,同比增長6.4%。其中半導體光刻膠市場ArFi占比最大(38%),其次為KrF(34%)、G/I線(16%)、ArF(10%),EUV占比最小(1%)。當前G/I線光刻膠的市場空間趨于飽和,未來占比將逐年減少,而EUV光刻膠主要用于7nm及更小的邏輯制程節點
電子化學品系列報告之一:光刻膠國產替代迎來良機
目前全球高端半導體光刻膠市場主要被日本和美國公司壟斷,日企全球市占率約80%,處于絕對領先地位。面對美日連續出臺政策限制半導體產品出口,中國半導體斷供風險提升,國產化亟待提升。
2023-2029年中國高飽和度光刻膠行業發展動態及市場需求潛力報告
《2023-2029年中國高飽和度光刻膠行業發展動態及市場需求潛力報告 》共十二章,包含2018-2022年高飽和度光刻膠行業各區域市場概況,高飽和度光刻膠行業主要優勢企業分析,2023-2029年中國高飽和度光刻膠行業發展前景預測等內容。
2022年中國光刻膠產業全景速覽:產業市場規模增長,國產供給率不斷提升[圖]
2021年,我國光刻膠產業生產總量為15萬噸,同比增長15.38%;產業市場規模為93.3億元,同比增長11.07%。經過初步統計測算,2022年,全國光刻膠行業生產總量將達到19萬噸,同比增速達26.67%;產業市場規模將達到98.6億元,同比增速達5.68%。
2022年中國光刻膠競爭格局及重點企業分析:企業加緊技術封鎖突破,國產光刻膠替代進程加速推進
我國光刻膠市場主要由日系JSR、信越化學、東京應化等少數公司所壟斷,國內光刻膠大規模產業化生產企業相對較少且企業所占市場份額較低,如2021年,晶瑞電材光刻膠業務收入為2.74億元,所占行業市場份額僅2.94%,行業市場集中度較低。
電子設備行業專題研究:斷供風險加劇 高端光刻膠迎國產化良機
光刻膠是晶圓制造重要材料,行業壁壘高。光刻膠是晶圓制造重要材料,承擔“圖形轉移”重任。光刻膠種類繁多,專用性強。光刻的線寬極限和精度決定了集成電路的集成度、可靠性和成本,因此摩爾定律推動光刻膠技術不斷加速迭代。同時光刻膠行業具備技術、客戶、設備及原料四大高壁壘。