英國國家物理實驗室（NPL）科學家與物理化學專家合作，利用最先進的電子順磁共振（EPR）技術來研究與超導量子電路相關的材料特性，其結果發表在《科學進展》雜志上。

近年來，超導量子計算機的研究重點是容錯糾錯量子計算,但進展存在阻礙。這些障礙主要歸因于與量子比特相互作用的原子級材料缺陷。該團隊通過用強磁場EPR提供的固有高分辨率，結合核光譜技術來研究Al2O3（一種存在于所有現代超導量子處理器中的材料）上的特定表面自由基。研究揭示了自由基的復雜結構，即一個電子耦合到Al2O3晶格中的多個Al原子以及許多單獨的氫原子核，這種表面缺陷的確切結構和形成化學與超導量子電路中的退相干有關。

這項研究是量子電路材料領域的重要進展，第一個為識別化學和結構上的缺陷提供了直接途徑。

注：本文摘自國外相關研究報道，文章內容不代表本網站觀點和立場，僅供參考。

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