光刻機
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半導體設備行業快報：65NM ARF光刻機官宣 國產光刻機行則將至
65nm ArF 光刻機官宣，參數對標ASML1460K 及Nikon S322F。為促進首臺（套）重大技術裝備創新發展和推廣應用，加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同，工業和信息化部印發《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024 年版）》。
財經研究
2024-09-19
光刻機行業：國之重器 路雖遠行則將至
光刻機被譽為半導體工業皇冠上的明珠，光刻是半導體芯片生產中最復雜、關鍵一環。光刻機是芯片制造流程中的核心設備，其光刻的工藝水平直接決定芯片的制程、性能，被譽為半導體工業皇冠上的明珠。光刻是半導體芯片生產中最復雜、關鍵步驟，耗時長、成本高。光刻機原理類似相機照相，發出光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后發生性質變化，使圖形復印到薄片上，使薄片具電子線路圖作用。其中分辨率直接決定制程，是最重要的指標；套刻精度影響良率；生產效率影響產能及經濟性。
財經研究
2024-08-23
光刻機行業深度研究報告：核心“卡脖子”設備 國產替代蓄勢待發
光刻機是半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一。全球光刻機市場規模超230 億美元，ASML 處于絕對領先，國內市場規模超200 億元，但是國產化率僅2.5%。目前半導體制造工藝節點縮小至5nm 及以下，曝光波長逐漸縮短至13.5nm，光刻技術逐步完善成熟，但是國內光刻機仍明顯落后ASML。
財經研究
2023-10-23
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