第一章三氟化氮產品概述

1.1 電子特種氣體——三氟化氮概述

1.2 三氟化氮的產業與市場簡述

1.2.1三氟化氮的應用領域

1.2.2三氟化氮的市場簡況

1.2.3 三氟化氮的產業簡況

1.3 三氟化氮行業的特點

1.3.1 行業興衰與半導體、光伏、液晶顯示產業發展有著關系密切

1.3.2 三氟化氮產品優勢得到發揮

1.3.3 市場壟斷性強

1.3.4 近年全球三氟化氮應用市場在迅速擴大

1.4 在當前環境保護要求的形勢變化下三氟化氮產品發展前景成為變數

1.4.1 三氟化氮成為氣候變化新威脅UNFCC已將其列入“監管”氣體之中

1.4.2 三氟化氮替代產品得到發展

第二章電子特種氣體、氟化工品應用市場

2.1 電子特種氣體概述

2.2 電子特種氣體制造中的主要技術方面

2.3 電子特種氣體的純凈度要求

2.4 電子特種氣體產品市場競爭的焦點問題

2.4.1 對電子特種氣體雜質、純度要求的問題

2.4.2 氣體配送及供應問題

2.4.3 儲存、使用中的安全性問題

2.4.4 成本性問題

2.5 國內外電子特種氣體行業發展概述

2.5.1 境外電子特種氣體生產與市場情況

2.5.2 國內電子特種氣體行業及其發展

2.6 氟化工產業概述

2.6.1 氟化工產業中的重要產品

2.6.2 我國氟化工產業發展情況

第三章三氟化氮的主要特性

3.1 物理特性

3.2 毒性及危險性

3.3 反應性

3.4 相關的安全性

3.5 主要性能及標準

3.5.1 對純度的一般質量指標要求

3.5.2 美國氣體及化學產品公司的NF3的工業標準及產品不同等級標準要求

3.5.3 SEMI的三氟化氮標準

3.5.4 三氟化氮 我國國家標準（GB/T 21287-2011）

第四章三氟化氮的主要生產工藝方法

4.1 NF3的制備方法

4.1.1 概述

4.1.2 直接化合法

4.1.3 氟和氟化氫銨法

4.1.5 電解法

4.2 NF3粗品純化工藝加工

4.2.1 NF3粗品純化工藝法的種類

4.2.2 低溫精餾法

4.2.3 化學吸收法

4.2.4 化學轉化法

4.2.5 選擇吸附法

4.3 安全生產的問題

4.4 在半導體晶元工廠的供應系統

第五章三氟化氮的主要應用領域概述

5.1 概述

5.2 三氟化氮在集成電路中的應用

5.2.1 集成電路芯片制程

5.2.2 化學氣相沉積和氣體應用

5.3 作為清洗劑、刻蝕劑在半導體制造中的應用

5.3.1 替代PFC作為清洗劑

5.3.2 等離子增強化學氣相沉積（PECVD）

5.3.3 在PECVD的干刻蝕、清洗加工中的應用

5.4 高純NF3在薄膜硅太陽電池中的應用

5.4.1 非晶硅薄膜太陽能電池

5.4.2 Si薄膜的材料特性

5.4.3 非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝及高純硅烷其應用

5.5 用三氟化氮作氟化劑

5.5.1 六氟化鎢的理化性質及用途

5.5.2 NF3是制造WF6

5.5.3 世界WF6 的生產現況

5.5.4 國內生產WF6的情況

5.6 三氟化氮作為氟源在化學激光器中應用

5.7 NF3在IC和TFT-LCD應用市場擴展的三階段

5.8 NF3在不同應用領域中應用量的比例

第六章世界及我國NF3的半導體市場調查與分析

6.1 世界半導體硅片生產與市場發展

6.1.1 世界半導體生產的現況

6.1.2 世界半導體硅片的生產狀況

6.2 我國半導體晶圓生產與市場現況與發展

6.2.1 我國集成電路市場、產業發展現狀

6.2.2 我國集成電路晶圓制造業情況

6.2.3 我國集成電路晶圓主要生產廠家情況

第七章世界及我國NF3的液晶顯示器市場調查與分析

7.1 世界平板顯示器產業發展現況

7.2 我國平板顯示器產業現況與未來發展預測

7.2.1 我國液晶顯示產業發展概述

7.2.2 我國LCD面板生產現況與未來幾年發展預測

7.2.3 我國發展平板顯示產業的相關政策及未來發展的預測、分析

第八章世界及我國NF3的薄膜硅太陽電池市場調查與分析

8.1 國內外光伏產業的發展

8.1.1 世界光伏產業的快速發展

8.1.2 我國光伏產業發展環境與現況

8.2 薄膜太陽能電池的生產與市場

8.2.1 薄膜太陽能電池特點及品種

8.2.2 薄膜太陽能電池未來市場發展前景

8.2.3 薄膜太陽能電池生產及在光伏市場上的份額變化

8.3 國內外薄膜太陽能電池的主要生產企業

8.3.1 境外薄膜太陽能電池生產廠家概況

8.3.2 國內薄膜太陽能電池生產廠家概況

第九章世界NF3的生產現狀與發展

9.1 概述

9.2 世界三氟化氮生產現況

9.3 美國的NF3生產現狀與廠家

9.3.1 美國AP公司

9.3.2 杜邦公司

9.4 日本的NF3生產現狀與廠家

9.4.1 關東電化工業公司

9.4.2 三井化學公司

9.4.3 中央玻璃公司

9.5 韓國的NF3生產現狀與廠家

9.5.1 韓國奧瑟亞

9.5.2 韓國曉星

9.5.3 SK Materials

9.6 中國臺灣的NF3生產現狀與廠家

第十章我國國內NF3的生產現狀與發展

10.1 國內NF3生產的發展

10.2 國內NF3生產需求市場

10.3 國內NF3的主要生產廠家

10.3.1 國內NF3的生產廠家概述

10.3.2南大光電

10.3.3昊華科技

10.3.4 中國船舶重工集團第七一八研究所

10.3.5 其它廠家

10.4 國內與NF3氣體相關的科研、協會機構

第十一章2021-2027年三氟化氮行業投資前景

11.1 2021-2027年三氟化氮市場發展前景

11.1.1 2021-2027年三氟化氮市場發展潛力

11.1.2 2021-2027年三氟化氮市場發展前景展望

11.1.3 2021-2027年三氟化氮細分行業發展前景分析

11.2 2021-2027年三氟化氮市場發展趨勢預測

11.2.1 2021-2027年三氟化氮行業發展趨勢

11.2.2 2021-2027年三氟化氮市場規模預測

11.2.3 2021-2027年三氟化氮行業應用趨勢預測

11.2.4 2021-2027年細分市場發展趨勢預測

11.3 2021-2027年中國三氟化氮行業供需預測

11.3.1 2021-2027年中國三氟化氮行業供給預測

11.3.2 2021-2027年中國三氟化氮行業需求預測

11.3.3 2021-2027年中國三氟化氮供需平衡預測

11.4 影響企業生產與經營的關鍵趨勢

11.4.1 市場整合成長趨勢

11.4.2 需求變化趨勢及新的商業機遇預測

11.4.3 企業區域市場拓展的趨勢

11.4.4 科研開發趨勢及替代技術進展

11.4.5 影響企業銷售與服務方式的關鍵趨勢

第十二章2021-2027年三氟化氮行業投資機會與風險(ZY TL)

12.1 三氟化氮行業投融資情況

12.1.1 行業資金渠道分析

12.1.2 固定資產投資分析

12.1.3 兼并重組情況分析

12.2 2021-2027年三氟化氮行業投資機會

12.2.1 產業鏈投資機會

12.2.2 細分市場投資機會

12.2.3 重點區域投資機會

12.3 2021-2027年三氟化氮行業投資風險及防范

12.3.1 政策風險及防范

12.3.2 技術風險及防范

12.3.3 供求風險及防范

12.3.4 宏觀經濟波動風險及防范

12.3.5 關聯產業風險及防范

12.3.6 產品結構風險及防范

12.3.7 其他風險及防范

部分圖表目錄：

圖表：半導體制造業用特種氣體按其使用時的特性分類情況

圖表：全球半導體工業用主要幾種高純度氣體的市場規模變化情況

圖表：氟化工產業鏈的構成情況

圖表：NF3分子結構圖

圖表：SEMI標準中NF3中 CF4、CO2、N2O、SF6和 CO 的分析流程圖

圖表：氣-固反應器圖

圖表：氣-液反應器圖

圖表：氣-液反應法的生產流程圖

圖表：電解槽結構圖

更多圖表見正文……