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2024-2030年中國IC制造行業市場競爭態勢及發展前景研判報告
IC制造
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2024-2030年中國IC制造行業市場競爭態勢及發展前景研判報告

發布時間:2024-06-18 10:03:26

《2024-2030年中國IC制造行業市場競爭態勢及發展前景研判報告》共十五章,包含國內IC制造重點企業介紹,2019-2023年IC制造業的投資市場分析,2024-2030年IC制造行業趨勢分析等內容。

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內容概況

智研咨詢發布的《2024-2030年中國IC制造行業市場競爭態勢及發展前景研判報告》共十五章。首先介紹了IC制造行業市場發展環境、IC制造整體運行態勢等,接著分析了IC制造行業市場運行的現狀,然后介紹了IC制造市場競爭格局。隨后,報告對IC制造做了重點企業經營狀況分析,最后分析了IC制造行業發展趨勢與投資預測。您若想對IC制造產業有個系統的了解或者想投資IC制造行業,本報告是您不可或缺的重要工具。

本研究報告數據主要采用國家統計數據,海關總署,問卷調查數據,商務部采集數據等數據庫。其中宏觀經濟數據主要來自國家統計局,部分行業統計數據主要來自國家統計局及市場調研數據,企業數據主要來自于國家統計局規模企業統計數據庫及證券交易所等,價格數據主要來自于各類市場監測數據庫。

報告目錄

第一章IC行業介紹

1.1 IC相關組成部分

1.1.1 存儲器

1.1.2 邏輯電路

1.1.3 微處理器

1.1.4 模擬電路

1.2 IC制造工藝

1.2.1 熱處理工藝

1.2.2 光刻工藝

1.2.3 刻蝕工藝

1.2.4 離子注入工藝

1.2.5 薄膜沉積工藝

1.2.6 清洗

1.3 IC行業產業鏈結構

1.3.1 上游設計環節

1.3.2 中游制造環節

1.3.3 下游封測環節

1.4 IC相關制造模式

1.4.1 IDM模式

1.4.2 Foundry模式

1.4.3 Chipless模式

第二章2019-2023年全球IC制造行業運行情況

2.1 全球IC制造業發展概況

2.1.1 IC制造市場運行現狀

2.1.2 全球IC制造競爭格局

2.1.3 全球IC制造工藝發展

2.1.4 全球IC制造企業發展

2.1.5 IC制造企業發展態勢

2.2 全球IC制造業技術專利

2.2.1 全球申請趨勢分析

2.2.2 優先權的國家分析

2.2.3 主要的申請人分析

2.2.4 技全球術態勢分析

2.3 全球集成電路產業園區

2.3.1 美國

2.3.2 日本

2.3.3 歐洲

2.3.4 亞太

第三章2019-2023年中國IC制造發展環境分析

3.1 經濟環境

3.1.1 全球宏觀經濟

3.1.2 國內宏觀經濟

3.1.3 工業和建筑業

3.1.4 宏觀經濟展望

3.2 社會環境

3.2.1 人口結構分析

3.2.2 居民收入水平

3.2.3 居民消費水平

3.2.4 工業企業利潤

3.3 投資環境

3.3.1 固定資產投資

3.3.2 社會融資規模

3.3.3 財政收支安排

3.3.4 地方投資計劃

第四章2019-2023年中國IC制造政策環境分析

4.1 國家政策解讀

4.1.1 促進集成電路產業高質量發展發政策

4.1.2 促進集成電路產業高質量發展所得稅

4.1.3 促進制造業產品和服務質量提升意見

4.1.4 工業和通信業職業技能提升行動計劃

4.1.5 制造業設計能力提升專項行動計劃

4.2 IC行業相關標準分析

4.2.1 IC標準組織

4.2.2 IC國家標準

4.2.3 行業IC標準

4.2.4 團體IC標準

4.2.5 IC標準現狀

4.3 “十四五”IC產業政策

4.3.1 注重工藝制造人才的引進

4.3.2 半導體投資不宜盲目跟風

4.3.3 加大關鍵設備國產化支持

第五章2019-2023年中國IC制造行業運行情況

5.1 中國IC制造業整體發展概況

5.1.1 IC制造業產業背景

5.1.2 IC制造業發展規律

5.1.3 IC制造業相關特點

5.1.4 IC制造業發展邏輯

5.2 中國IC制造業發展現狀分析

5.2.1 IC制造業發展現狀

5.2.2 IC制造業銷售規模

5.2.3 IC制造業市場占比

5.2.4 IC制造業未來增量

5.2.5 IC制造業水平對比

5.3 中國臺灣IC制造行業運行分析

5.3.1 中國臺灣IC制造發展歷程

5.3.2 中國臺灣IC產業全球份額

5.3.3 中國臺灣IC產值具體分布

5.3.4 中國臺灣重點IC公司營收

5.3.5 中國臺灣IC產值未來預測

5.4 2019-2023年中國IC進出口數據分析

5.4.1 進出口總量數據分析

5.4.2 主要貿易國進出口情況分析

5.4.3 主要省市進出口情況分析

5.5 IC制造業面臨的問題與挑戰

5.5.1 IC制造業面臨問題

5.5.2 IC制造業生態問題

5.5.3 IC制造業發展挑戰

5.6 IC制造業發展的對策與建議

5.6.1 IC制造業發展策略

5.6.2 IC制造業生態對策

5.6.3 IC制造業政策建議

第六章IC制造產業鏈介紹

6.1.1 IC制造產業鏈整體介紹

6.1.2 上游——原料和設備

6.1.3 中游——制造和封裝

6.1.4 下游——應用市場

6.2 設計市場發展現狀分析

6.2.1 IC設計企業整體運行

6.2.2 IC設計市場規模分析

6.2.3 IC設計公司數量變化

6.2.4 IC設計市場存在問題

6.2.5 IC設計行業機遇分析

6.3 封裝市場發展現狀分析

6.3.1 封裝市場簡單概述

6.3.2 半導體的封裝市場

6.3.3 先進封裝市場運行

6.3.4 封裝市場發展方向

6.4 測試市場發展現狀分析

6.4.1 IC測試內容

6.4.2 IC測試規模

6.4.3 IC測試廠商

6.4.4 IC測試趨勢

第七章2019-2023年IC制造相關材料市場分析

7.1 IC材料市場整體運行分析

7.1.1 IC材料市場發展現狀

7.1.2 IC材料市場發展思路

7.1.3 IC材料產業現存問題

7.1.4 IC材料市場發展目標

7.1.5 IC材料產業發展展望

7.2 硅片材料

7.2.1 硅片制造工藝

7.2.2 硅片制造方法

7.2.3 市場運行情況

7.2.4 硅片產業機遇

7.2.5 硅片產業挑戰

7.3 光刻材料

7.3.1 光刻材料的組成

7.3.2 光刻膠整體市場

7.3.3 光刻膠市場競爭

7.3.4 光刻膠產業特點

7.3.5 光刻膠產業問題

7.3.6 光刻膠提升方面

7.3.7 光刻膠發展建議

7.4 拋光材料

7.4.1 主要的材料介紹

7.4.2 光刻膠發展歷程

7.4.3 光刻膠發展現狀

7.4.4 產品相關的企業

7.5 其他材料市場分析

7.5.1 掩模版

7.5.2 濕化學品

7.5.3 電子氣體

7.5.4 靶材及蒸發材料

7.6 材料市場重大工程建設

7.6.1 IC關鍵材料及裝備自主可控工程

7.6.2 相關材料、工藝及裝備驗證平臺

7.6.3 先進半導體材料在終端領域應用

7.7 材料市場發展對策建議

7.7.1 抓住戰略發展機遇期

7.7.2 布局下一代的IC技術

7.7.3 構建產業技術創新鏈

第八章2019-2023年IC制造環節設備市場分析

8.1 半導體設備

8.1.1 半導體設備市場規模

8.1.2 半導體設備國產化率

8.1.3 半導體設備政策支持

8.1.4 半導體設備市場格局

8.1.5 半導體設備主要產商

8.1.6 半導體設備投資占比

8.1.7 半導體設備規模預測

8.2 晶圓制造設備

8.2.1 晶圓制造設備主要類型

8.2.2 晶圓制造設備市場規模

8.2.3 制造設備市場份額分析

8.2.4 晶圓制造設備投資占比

8.2.5 晶圓制造設備規模預測

8.3 光刻機設備

8.3.1 光刻機發展歷程

8.3.2 光刻機的產業鏈

8.3.3 光刻機市場供應

8.3.4 光刻機設備占比

8.3.5 全球光刻機銷量

8.4 刻蝕機設備

8.4.1 刻蝕機的主要分類

8.4.2 刻蝕機的市場規模

8.4.3 刻蝕機市場集中度

8.4.4 刻蝕機的國產替代

8.4.5 刻蝕機的規模預測

8.5 硅片制造設備

8.5.1 制造設備簡介

8.5.2 市場廠商分布

8.5.3 主要設備涉及

8.5.4 設備市場規模

8.5.5 設備市場項目

8.6 檢測設備

8.6.1 檢測設備主要分類

8.6.2 檢測設備市場占比

8.6.3 檢測設備市場格局

8.6.4 工藝檢測設備分析

8.6.5 晶圓檢測設備分析

8.6.6 FT測試設備分析

8.7 中國IC設備企業

8.7.1 屹唐半導體科技有限公司

8.7.2 中國電子科技集團有限公司

8.7.3 盛美半導體設備股份有限公司

8.7.4 北方華創科技集團股份有限公司

第九章2019-2023年晶圓制造廠具體市場分析

9.1 晶圓制造廠市場運行分析

9.1.1 全球晶圓制造產能

9.1.2 全球晶圓制造產量

9.1.3 中國晶圓廠的建設

9.1.4 晶圓廠的市場招標

9.1.5 晶圓制造產能預測

9.2 晶圓代工廠市場運行分析

9.2.1 全球晶圓代工市場

9.2.2 全球晶圓代工工廠

9.2.3 中國晶圓代工市場

9.2.4 中國晶圓代工工廠

9.3 中國晶圓廠生產線分布

9.3.1 12英寸(300mm)晶圓生產線

9.3.2 8英寸(200mm)晶圓生產線

9.3.3 6英寸及以下尺寸晶圓生產線

9.3.4 化合物半導體晶圓生產線

9.4 晶圓廠建設市場機遇

9.4.1 供給端來看

9.4.2 需求端來看

第十章2019-2023年IC制造相關技術分析

10.1 IC制造技術指標

10.1.1 集成度

10.1.2 特征尺寸

10.1.3 晶片直徑

10.1.4 封裝

10.2 化學機械拋光CMP

10.2.1 化學機械研磨CMP

10.2.2 CMP國產化現狀

10.2.3 CMP國產化協作

10.3 光刻技術

10.3.1 光刻技術耗時

10.3.2 光刻技術內涵

10.3.3 光刻技術工藝

10.4 刻蝕技術

10.4.1 刻蝕技術簡介

10.4.2 主流刻蝕技術

10.4.3 刻蝕技術壁壘

10.5 IC技術發展趨勢

10.5.1 尺寸逐漸變小

10.5.2 新技術和材料

10.5.3 新領域的運用

第十一章2019-2023年IC制造行業建設項目分析

11.1 研發及產業化建設項目

11.1.1 項目概況

11.1.2 項目必要性分析

11.1.3 項目可行性分析

11.1.4 項目投資概算

11.2 芯片測試產能建設項目

11.2.1 項目概況

11.2.2 項目必要性分析

11.2.3 項目可行性分析

11.2.4 項目投資概算

11.3 存儲先進封測與模組制造項目

11.3.1 項目基本情況

11.3.2 項目必要性分析

11.3.3 項目可行性分析

11.3.4 項目投資概算

11.4 晶圓制程保護膜產業化建設項目

11.4.1 項目必要性分析

11.4.2 項目投資概算

11.4.3 項目周期進度

11.4.4 審批備案情況

11.5 8英寸MEMS國際代工線建設項目

11.5.1 項目基本情況

11.5.2 項目必要性分析

11.5.3 項目可行性分析

11.5.4 項目投資概算

11.5.5 項目經濟效益

第十二章國外IC制造重點企業介紹

12.1 英特爾股份有限公司

12.1.1 企業發展概況

12.1.2 企業經營狀況分析

12.2 三星電子

12.2.1 企業發展概況

12.2.2 企業經營狀況分析

12.3 德州儀器

12.3.1 企業發展概況

12.3.2 企業經營狀況分析

12.4 海力士半導體公司

12.4.1 企業發展概況

12.4.2 企業經營狀況分析

12.5 安森美半導體

12.5.1 企業發展概況

12.5.2 企業經營狀況分析

第十三章國內IC制造重點企業介紹

13.1 中國臺灣積體電路制造公司

13.1.1 企業發展概況

13.1.2 經營效益分析

13.1.3 業務經營分析

13.1.4 財務狀況分析

13.1.5 核心競爭力分析

13.1.6 公司發展戰略

13.2 華潤微電子有限公司

13.2.1 企業發展概況

13.2.2 經營效益分析

13.2.3 業務經營分析

13.2.4 財務狀況分析

13.2.5 核心競爭力分析

13.2.6 公司發展戰略

13.3 芯源微電子設備股份有限公司

13.3.1 企業發展概況

13.3.2 經營效益分析

13.3.3 業務經營分析

13.3.4 財務狀況分析

13.3.5 核心競爭力分析

13.3.6 公司發展戰略

13.4 中芯國際集成電路制造有限公司

13.4.1 企業發展概況

13.4.2 經營效益分析

13.4.3 業務經營分析

13.4.4 財務狀況分析

13.4.5 核心競爭力分析

13.4.6 公司發展戰略

13.5 聞泰科技股份有限公司

13.5.1 企業發展概況

13.5.2 經營效益分析

13.5.3 業務經營分析

13.5.4 財務狀況分析

13.5.5 核心競爭力分析

13.5.6 公司發展戰略

第十四章2019-2023年IC制造業的投資市場分析

14.1 IC產業投資分析

14.1.1 IC產業投資基金

14.1.2 IC產業投資機會

14.1.3 IC產業投資問題

14.1.4 IC產業投資思考

14.2 IC投資基金介紹

14.2.1 IC投資資金來源

14.2.2 IC投資具體項目

14.2.3 IC投資金額情況

14.2.4 IC投資基金營收

14.3 IC制造投資分析

14.3.1 投資的整體市場

14.3.2 IC制造投資市場

14.3.3 IC制造投資項目

第十五章2024-2030年IC制造行業趨勢分析

15.1 IC制造業發展的目標與機遇

15.1.1 IC制造業發展目標

15.1.2 IC制造業發展趨勢

15.1.3 IC制造業崛起機遇

15.1.4 IC制造業發展機遇

15.2 2024-2030年中國IC制造業預測分析

15.2.1 2024-2030年中國IC制造業影響因素分析

15.2.2 2024-2030年中國IC制造業規模預測

圖表目錄

圖表 晶圓制造流程

圖表 氧化工藝的用途

圖表 光刻工藝流程圖

圖表 光刻工藝流程簡介

圖表 濕法刻蝕和干法刻蝕對比

圖表 具有多晶硅柵和鋁金屬化CMOS芯片刻蝕工藝

圖表 離子注入與擴散工藝比較

圖表 離子注入機細分市場格局

圖表 CVD與PVD工藝比較

圖表 化學薄膜沉積工藝過程

圖表 三種CVD工藝對比

圖表 半導體清洗的污染物種類、來源及危害

圖表 IDM模式流程圖

圖表 IC制造領域全球專利按專利權人指標圖

更多圖表見正文......

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